第八個(gè)是污點(diǎn)去除工具,它有一點(diǎn)像仿制圖章和污點(diǎn)修復(fù)畫筆的結(jié)合體。污點(diǎn)去除工具,可以自動(dòng)仿制相鄰區(qū)域,如果效果不理想,可以直接挪動(dòng)仿制區(qū)域到我們想要仿制的地方。
第六個(gè)是裁切工具,操作上也與Photoshop相同,不再贅述。唯一不同的就是,在CameraRaw插件中,只要做過裁切操作,再次點(diǎn)擊時(shí)裁切工具就能看到裁切框,方便修改裁切操作。但是在Photoshop中,用戶只能從歷史記錄中返回裁切步驟,再操作。
PMA2010選在加州南部的阿納海姆市舉行,相比上一屆在賭城拉斯維加斯舉辦,此地應(yīng)該更具文化氛圍。而身為加州州長的前好萊塢著名動(dòng)作影星阿諾德·施瓦辛格不知對(duì)攝影是否也感興趣。
北京時(shí)間2月21日晚,第86屆美國國際影像器材及數(shù)碼電子貿(mào)易博覽會(huì)——PMA2010在美國加利福尼亞州南部城市阿納海姆的阿納海姆會(huì)議中心正式開幕,展出時(shí)間為2月21日~23日。地處美國西海岸的阿納海姆與北京有15個(gè)小時(shí)的時(shí)差,可謂是日月相隔,但作為國際上久負(fù)盛名、歷史最悠久影像器材展之一,PMA還是吸引了大批觀眾和愛好者關(guān)注。
一年一度的PMA大展通常會(huì)在年初舉行,為此眾多影像器材廠商都會(huì)集中在此前發(fā)布新品,以此在PMA大展上博得關(guān)注,影像行業(yè)的春季大戰(zhàn)便由PMA開始打響。
從本屆PMA2010的規(guī)模來看,應(yīng)該說較往年所有下滑,一方面由于今年9月將在德國柏林舉辦Photokina影像大展,部分廠商衡量權(quán)重,選擇了為后者儲(chǔ)存實(shí)力;另一方面,受2009年經(jīng)濟(jì)危機(jī)的波及,部分廠商不得不縮小了站臺(tái)使用面積。
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